一、"N" 或 “W”峰出現(xiàn)的原因
1、TCD操作,用N2作載氣由于熱傳導(dǎo)率非線性引起;
2、FID操作時,樣品溶劑電離效率低(如CS2),或氣流比欠佳時;
3、ECD操作時,由于檢測器被污染,溶劑峰或待測組分含量較高,或脈沖電源有毛病。
二、舌頭峰(前延峰)出現(xiàn)的原因
1、汽化溫度偏低;
2、載氣流量小:
3、進樣量大,汽化時間長;
4、汽化室被污染,樣品有吸附效應(yīng);
5、樣品在柱頭有冷凝或色譜柱被污染;
6、進樣技術(shù)差(揮發(fā)性組分的進樣速度太慢);
7、峰前出現(xiàn)了“鬼”峰。