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簡要描述:高純氣體分析氣相色譜儀,高純氣體分析儀AnalyElf G60EPD儀搭載高質(zhì)量的增強型等離子體放電(Epd)傳感技術(shù),擁有wu 可比擬的檢測極限,低至100 ppt的檢出濃度是氣相色譜儀解決方案在氣體分析領(lǐng)域的又一次突破。
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檢測項目 | 常規(guī)+特種氣體微量雜質(zhì)分析 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,冶金,航天 |
高純氣體分析儀AnalyElf G60EPD
概述:
高純氣體分析儀G60EPD是一款痕量氣體分析儀,專門應(yīng)用與高純氣體及電子級工業(yè)氣體的純度分析氣相色譜儀,具有wu可比擬的檢測極限,可以測量zui低水平的雜質(zhì)。
隨著經(jīng)濟的快速發(fā)展,氣體純度分析越來越需要更嚴格的氣體質(zhì)量控制。現(xiàn)在對于許多氣體分析的應(yīng)用,希望雜質(zhì)遠遠低于50 ppb。市場上的其他技術(shù),如放電電離檢測器及其變體,比如PIHID、DID等,只能提供50 ppb范圍內(nèi)的檢測限,這已經(jīng)不能滿足市場對高純氣體純度的要求。憑借其超靈敏的增強型等離子體放電(Epd)檢測器、高質(zhì)量的吹掃密封閥(PLSV)組件、信號處理和wu與倫比的分析性能,我們的G60EPD高純氣體分析系統(tǒng)是氣體質(zhì)量認證的交鑰匙工具
測量的雜質(zhì):
H2, O2, N2, CH4, CO, CO2, Ar, Ne,Kr,Xe、NHMC
特點:
1、高靈敏度Epd技術(shù),低至 100 ppt的檢測極限
2、一臺儀器適用于所有基質(zhì)氣體;
3、采用高可靠的PLSV防泄漏閥技術(shù);
4、搭載帶有吹掃的高精度電子氣路APC控制器
5、經(jīng)濟的載氣消耗解決方案;
6、可以選擇使用氬氣載氣,運行成本低;
7、多種機型供選擇:臺式G51、G60系列,便攜PG20系列,PG6系列
主要規(guī)格:
1、測量范圍:10 ppm~100 ppm,0~250 ppb.
2、檢測極限:He載氣<0.1 ppb, Ar做載氣時結(jié)合SCS濃縮儀(0.5 ppb/0.1ppb可選)。
3、基質(zhì):H2, O2, N2, He, Air, CH4, CO, CO2,Ar、Kr、Ne、Xe
4、載體氣體:氦氣He,氬氣Ar
其他應(yīng)用:
SiH4 分析
超高純二氧化碳分析
超高純NH3分析
超高純空氣分析。
超高純CH4分析。
HC1分析。
C4F8分析。
增強型附件介紹:
樣品濃縮系統(tǒng)SCS.
樣品濃縮系統(tǒng) :wu與倫比的樣品完整性。
我們的樣品濃縮系統(tǒng)(SCS)既可以作為19英寸機架式設(shè)備的用于iMOv,也可以作為獨立的臺式設(shè)備用于miniMOv,它是圍繞我們的吹掃密封閥(PLSV)捕集和釋放閥(T&R)設(shè)計的,具有du特的可配置的4步流程,確保樣品的完整性。當與我們的電子制冷式冷阱和急速加熱器結(jié)合使用時,你將受益于(最)好的性能。
特點:
du特的可配置的4步流程:采樣、放空樣品基質(zhì)、捕集阱富集和捕集阱釋放。
采用吹掃密封閥(PLSV)技術(shù),具有wu可比擬的泄漏完整性。
捕集溫度低至-30℃,釋放溫度高至300℃。
彈道式釋放溫度
分流樣品注入
可提供惰性化流路。
典型應(yīng)用:
揮發(fā)性有機物分析。
硫化物分析
濃縮永jiu氣體
任何其他需要濃縮的應(yīng)用。
任何使用泄漏敏感的檢測器應(yīng)用,如質(zhì)譜儀
解決方案亮點:
可配置的4步流程.
捕集器隔離步驟改善了色譜法和峰的清晰度
樣品基質(zhì)排放步驟簡化并改善了色譜法
由于PLSV技術(shù)具有wu可比擬的泄漏完整性,在釋放階段沒有檢測器基線移動
基質(zhì)放空功能.
嵌入式樣品基質(zhì)吹掃功能可以吹掃樣品基質(zhì)。例如,氫氣基質(zhì)可以被放空,而我們創(chuàng)新的捕集材料允許永jiu氣體濃度達到ppt的檢測極限。
無冷點
當與我們的iMOv或miniMOv平臺結(jié)合時,它不需要加熱的傳輸線。這一設(shè)計特點是改進色譜法的關(guān)鍵,因為它減少了冷點的風險。
采用PLSV閥技術(shù)
通常情況下,樣品濃縮用于痕量測量應(yīng)用。為了防止污染,樣品的完整性是關(guān)鍵。更重要的是,閥門的泄漏會導致基線波動和噪音。我們的樣品濃縮儀的性能歸結(jié)于我們du特的吹掃密封閥(PLSV),當它與嵌入式4步流程相結(jié)合時,克服了所有這些問題,提供了wu與倫比的性能。
無泄漏。消除了內(nèi)側(cè)/外側(cè)和交叉口的泄漏,防止色譜柱污染和基線偏移(來自于空氣泄漏)。
改善基線噪音。
嵌入式4步流程,具有獨te的基質(zhì)放空功能。
無死體積。內(nèi)部流路不包含任何無用體積。